康疤適 - 專利技術
其首項專利 DSM（Derivatives of Flavanol Glycoside Small Molecule）技術，從蕨類植物萃取小分子黃烷醇糖苷，抑制肌成纖維細胞活性。這類細胞在傷口癒合過程中會釋放大量膠原蛋白和纖維組織，導致疤痕組織增生、凸起。康疤適的配方能抑制機成纖維細胞活性, 「引導」細胞進入正常靜止狀態，減少膠原沉積，讓疤痕不再失控地增生，回歸柔軟、平整的狀態。
(Use of a flavanol glycoside for suppressing activation of stellate cells
https://patents.justia.com/patent/9260466)
第二項專利SDAA（Stilbenoid Derivatives Antimicrobial Agents）抗菌技術則針對疤痕常見的慢性炎症與搔癢問題。康疤適含天然芪類化合物, 有效抑制一般細菌和真菌繁殖, 芪類化合物的高效抗氧化分子，能清除活性氧與自由基，減低傷口出現炎症, 紅腫、舒緩不適，大大減少傷口癒合過程中出現的痕癢感, 防止因抓癢造成的二次傷害。這種「抗菌+抗炎」的組合，使傷口受感染機會降低, 加速傷口癒合。
(Method of using of dihydro-resveratrol or its stilbenoid derivatives and/or chemical variants as antimicrobial agents
